當(dāng)前位置:首頁 > 產(chǎn)品中心 > > 橢偏儀 > Dymek岱美儀器全光譜橢圓偏光測厚儀SE950
簡要描述:Raditech致力于光學(xué)檢測設(shè)備,在光學(xué)量測設(shè)備領(lǐng)域?qū)I(yè)度高、能提供整合性解決方案。推出第一臺(tái)國人自制的「全光譜橢圓偏光量測儀」及「全光譜反射式膜厚量測儀」,能協(xié)助產(chǎn)業(yè)界邁向更精密化、更微細(xì)化,技術(shù)與國際大廠并駕齊驅(qū),產(chǎn)品精確度高、價(jià)格具競爭力,穩(wěn)健邁向國內(nèi)自制最高質(zhì)量之精密光學(xué)量測設(shè)備制造商。
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優(yōu)勢(shì):
1、微光斑功能: 標(biāo)準(zhǔn)配置微光斑 光斑尺寸80x120微米。特殊光學(xué)設(shè)計(jì)與研磨級(jí)高精度Z軸搭配可自動(dòng)移除透明襯底背面反射.對(duì)焦過程中可自動(dòng)判定膜層的對(duì)焦位置,并通過光學(xué)狹縫克服透明襯底背后反射
2、采用訊號(hào)自動(dòng)對(duì)焦,量測訊號(hào)與對(duì)焦訊號(hào)為同一訊號(hào) 有效避免量測的位置誤差。
3、檢偏器自動(dòng)追蹤:大幅提升橢偏儀量測精度,特別有利于極薄膜層的材料分析以及ψ與Δ之精度
4、電動(dòng)自動(dòng)可調(diào)變衰減片:可自動(dòng)或手動(dòng)調(diào)整不同樣品訊號(hào)飽和程度(100%~0.1%),并可分段設(shè)置UV訊號(hào)與可見光訊號(hào)強(qiáng)度以便獲取最佳量測訊號(hào)
5、軟件自動(dòng)分析擬合:提供膜厚 折射率預(yù)分析功能,未知材料的數(shù)據(jù)庫比對(duì)能力,軟件自動(dòng)分析簡化操作,克服橢偏儀一向由專業(yè)人士操作帶來的量測困難。
6、遠(yuǎn)程遙控:突破橢偏儀需到場服務(wù)與培訓(xùn)之限制,大幅提升售后服務(wù)之效率
7、高質(zhì)量DUV光譜儀: 光譜范圍220nm-1100nm,(可選配至1700nm)分辨率<1nm 自帶半導(dǎo)體制冷,高動(dòng)態(tài)比,訊噪比盡可能的減小噪聲影響
8、自動(dòng)生成2D或3D Mapping 圖譜并自動(dòng)數(shù)據(jù)分析,光譜自動(dòng)保存,數(shù)據(jù)可匯總及上傳
9、以recipe設(shè)置 測試時(shí)間大幅縮短至1-3秒,提高測試效率。
10、設(shè)計(jì)上 采用抗紫外鈍化光纖雙光纖結(jié)構(gòu),先進(jìn)的斷開功能,大幅提升光譜穩(wěn)定性和長期使用的可靠性。
11、高穩(wěn)定性 標(biāo)準(zhǔn)片 膜厚重復(fù)性精度<0.5A,折射率重復(fù)精度<0.0005
12、膜厚測試范圍1nm-20微米 可針對(duì)透明或不透明襯底測試
13、免費(fèi)建模
規(guī)格:
光學(xué)原理:
光波從接觸到光學(xué)組件表面,到離開光學(xué)組件表面的短暫時(shí)間里,其偏極狀態(tài)(polarization state)一定會(huì)改變。橢圓偏光儀,既是一種用來量測光波穿透光學(xué)組件,或從光學(xué)組件表面反射前后偏極狀態(tài)改變情形的儀器。由于此種偏極狀態(tài)的改變是光波與光學(xué)組件材料產(chǎn)生交互作用的結(jié)果,因此可由偏極狀態(tài)的改變情形,反推得到光學(xué)組件表面的物理特性。這里所謂的光學(xué)組件表面有可能是光學(xué)組件的表面,也有可能是單層膜或多層膜的堆棧,也可能是光學(xué)組件表面的污染層。
光藉由非零度入射角至樣品表面而反射, 因?yàn)闃悠返暮穸燃皩?duì)光的反應(yīng)(吸收或透明…)而產(chǎn)生極化狀態(tài)的改變(產(chǎn)生相位及振幅的改變),此量測方式我們稱為橢圓儀量測。量測時(shí)對(duì)于每個(gè)波長,我們得到兩個(gè)獨(dú)立的參數(shù)Ψ and △
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